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來(lái)源:考試資料網(wǎng)
1
側(cè)
方位排牙時(shí),平衡側(cè)不接觸工作側(cè)接觸,應(yīng)()。
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2
上前牙PFM全冠舌側(cè)預(yù)備至少()。
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3
在制作金屬烤瓷全冠的基底冠時(shí),若蠟型厚度均勻一致,容易產(chǎn)生的結(jié)果是()。
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4
為提高工作模型基牙的表面強(qiáng)度,可采取下述哪種方法。()
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5
理想的氧化膜的厚度是()。
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