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填空題
不同（）的硅片，它的化學(xué)、電學(xué)、和機(jī)械性質(zhì)都（），這會(huì)影響最終的（）。例如（），界面態(tài)等。
答案：
晶向；不同；器件性能；遷移率
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述區(qū)熔法（FZ法）的特點(diǎn)與優(yōu)缺點(diǎn)。
答案：
區(qū)熔法（FZ法）的特點(diǎn)使用摻雜好的多晶硅棒；
優(yōu)點(diǎn)是純度高、含氧量低；
缺點(diǎn)是硅片直徑比直拉的小。
