A.原則上每一張射線底片都應(yīng)放置像質(zhì)計(jì)
B.周向曝光技術(shù)中,在至少每隔120º的位置上放置一個(gè)像質(zhì)計(jì)
C.像質(zhì)計(jì)一般放在射線底片的兩端,像質(zhì)計(jì)最細(xì)的金屬絲應(yīng)靠近端頭處
D.以上都對(duì)
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A.工件編號(hào)
B.部位編號(hào)
C.搭接標(biāo)記
D.透照時(shí)間
A.一次散射
B.內(nèi)部散射
C.正向散射
D.背散射
A.散射比定義為散射線能量與一次射線能量之比
B.散射比定義為散射線強(qiáng)度與一次射線強(qiáng)度之比
C.與一次射線相比,散射線能量減小,波長(zhǎng)變長(zhǎng),運(yùn)動(dòng)方向改變
D.以上不全對(duì)
A.由于工件內(nèi)部形成的散射線稱內(nèi)部散射線
B.工件以外物體形成的散射線稱外部散射線
C.射線照相時(shí),到達(dá)膠片的散射線,最主要是來(lái)自工件以外物體形成的外部散射線
D.射線照相時(shí),到達(dá)膠片的散射線,最主要是來(lái)自被透照工件本身的內(nèi)部散射
A.曝光曲線
B.衰減曲線
C.吸收曲線
D.飽和曲線
最新試題
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