單項(xiàng)選擇題下列()工藝不屬于低溫克勞斯工藝。

A、MCRC
B、SCOT
C、SuLfreen
D、CLAUS


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2.單項(xiàng)選擇題斯科特系統(tǒng)采用()作為H2S吸收溶劑

A、MDEA
B、DEA
C、DIPA
D、MEA

3.單項(xiàng)選擇題硫磺在設(shè)計(jì)工況下裝置煙氣中二氧化硫排放濃度為()。

A、300PPm
B、3000PPm
C、1500PPm
D、2000PPm

4.單項(xiàng)選擇題硫磺裝置總硫轉(zhuǎn)化率設(shè)計(jì)可達(dá)()。

A、99.0%
B、98.5%
C、99.8%
D、99.9%

5.單項(xiàng)選擇題硫磺裝置技術(shù)從()引進(jìn)。

A、美國(guó)
B、荷蘭
C、加拿大
D、英國(guó)