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【簡答題】什么是硅片的自然氧化層?由自然氧化層引起的三種問題是什么?
答案:
自然氧化層:如果曝露于室溫下的空氣或含溶解氧的去離子水中,硅片的表面將被氧化。這一薄氧化層稱為自然氧化層。硅片上最初的自...
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問答題
【簡答題】對凈化間做一般性描述。
答案:
凈化間是硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離,免受諸如顆粒、金屬、有機(jī)分子和靜電釋放(ESD.的玷污。一般來講,那意味著這些玷污在...
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問答題
【簡答題】例舉出硅片廠中使用的五種通用氣體。
答案:
氧氣(O2)、氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氫氣(H2)和氦氣(HE.
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