各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng)，X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有（）。

對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí)，首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查，不滿足要求的底片不予評(píng)定，質(zhì)量檢查項(xiàng)目有（）。

產(chǎn)生干涉的兩列相干波，在振動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不同的波程差，波程差與波長(zhǎng)相關(guān)聯(lián)，所以不同的波程差會(huì)出現(xiàn)（）等現(xiàn)象。

下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說(shuō)法，錯(cuò)誤的有（）。

滲透檢測(cè)焊縫，對(duì)焊縫及熱影響區(qū)表面進(jìn)行清理，可以采用（）。

底片靈敏度的檢查內(nèi)容包括像質(zhì)計(jì)（）要達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的要求。

下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說(shuō)法正確的有（）。

用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有（）。

表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí)，水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋，這時(shí)水或水溶液的（）。

探傷儀面板上負(fù)責(zé)掃描電路的控制旋鈕有（）。