問答題

【簡答題】CVD制程具有哪些優(yōu)缺點？

答案： 優(yōu)點：
（1）真空度要求不高，甚至不須真空，如熱噴覆。
（2）高沉積速率，APCVD可以達(dá)到1&mu...
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【簡答題】電漿輔助VCD系統(tǒng)具有何特色？
答案： 一般CVD均是在高溫的基板下產(chǎn)生沉積反應(yīng)，如果以電漿激發(fā)氣體，即所謂的電漿輔助CVD（Plasma enhanced C...
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【簡答題】CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)步驟可區(qū)分為幾個步驟？
答案： （1）不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來，以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立...
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