A.氟牙癥
B.釉質(zhì)發(fā)育不全
C.四環(huán)素牙
D.先天性梅毒牙
E.遺傳性乳光牙本質(zhì)
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A.平面導(dǎo)板
B.Herbst矯治器
C.FrankelⅢ型矯治器
D.以上都正確
E.以上都不正確
A.內(nèi)收上前牙的唇弓
B.下頜前磨牙的改良箭頭卡環(huán)或三角形箭頭卡環(huán)(Delta卡環(huán))
C.上頜磨牙的改良箭頭卡環(huán)或三角形箭頭卡環(huán)(Delta卡環(huán))
D.牙合墊
E.下前牙的唇弓
A.要求準(zhǔn)確的印模和咬合記錄
B.矯治器的基托和牙合墊部分可以用自凝塑料和熱凝塑料制作
C.下頜牙合墊咬合斜面的角度為45°
D.上頜磨牙區(qū)斜面導(dǎo)板的后緣應(yīng)位于下頜第二前磨牙的近中
E.以上都正確
A.舌桿
B.連續(xù)桿
C.帶連續(xù)桿的舌桿
D.舌板
E.唇桿
A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模
最新試題
影響全口義齒穩(wěn)定性,使全口義齒固位力發(fā)生變化的主要因素是()。
冠外附著體的基牙牙冠齦距大于()。
患者采用固定義齒修復(fù),若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學(xué)的措施為()。
全口義齒基托需要緩沖的地方是()。
對可摘局部義齒基托功能的敘述,不正確的是()。
磁性附著體戴用后的注意事項,不包括()。
在全口義齒排牙中,需接觸平面的是()。
磁性附著體屬于()。
光接觸修復(fù)體表面,當(dāng)光的入射角為多少度時,光的反射量最大?()
Kennedy第一類缺失,基牙向遠(yuǎn)中傾斜。擬用可摘局部牙齒修復(fù),義齒戴入的方向是()。