A.6mm
B.8mm
C.10mm
D.15mm
E.以上均不正確
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A.托盤寬度比牙槽嵴寬2~3mm
B.托盤邊緣高度應離開黏膜皺襞2~3mm
C.上頜托盤腭側至顫動線后3~4mm
D.托盤若邊緣稍短時,可用蠟片或印模膏加長
E.以上均是
A.上尖牙唇面與腭皺的側面通常相距約1cm
B.上頜第一前磨牙牙長軸垂直,頰、舌尖均與牙合平面接觸
C.上頜第二前磨牙頰尖與牙合平面接觸,舌尖高于牙合平面約1mm
D.上頜第一磨牙遠中頰尖高于牙合平面約1mm
E.上頜第二磨牙近中頰尖高于牙合平面約1.5mm
A.鉸鏈式牙合架只能繞鉸鏈軸旋轉作上下開閉運動
B.平均值牙合架可近似模擬前伸和側方咬合接觸滑動運動(前伸髁導25°,側方髁導15°)
C.半可調牙合架髁導和切導斜度均可調,可模擬迅即側移等下頜運動特征
D.全可調牙合架可利用運動面弓將患者下頜三維運動特征轉移至牙合架
E.HanauH型牙合架屬于半可調牙合架
A.上下頜前庭溝底
B.前、后顫動線間的弓形區(qū)域
C.唇頰舌系帶附著部
D.上頜結節(jié)頰側
E.下頜磨牙后墊
A.下頜后牙游離缺失,如果末端基牙向后傾斜,模型應向后傾斜,增加末端基牙遠中倒凹
B.后牙非游離缺失,應根據基牙的健康程度來決定模型向前或向后傾斜
C.一側缺牙多,另一側缺牙少,應將模型向牙齒多側傾斜,從缺牙多側向缺牙少側戴入
D.前后牙均有缺失,前牙倒凹較大時,將模型向后傾斜,就位道由前向后,使前牙倒凹減小
E.調節(jié)倒凹法設計的就位道,適用于基牙牙冠短,基牙長軸彼此近似平行者
最新試題
全冠用滴蠟法恢復頜面形態(tài)時,常分為()。
上頜后堤區(qū)最寬的部分是()。
非貴金屬基底冠的厚度應不低于()。
為了加強全口義齒牙冠的立體感,在制作基托蠟型時可以()。
以下造成鑄件表面粗糙的原因不包括()。
貴金屬基底冠的的厚度應為()。
樹脂調拌時,其粉和液按重量比,正確的比例是()。
全冠熔模要求建立正常的軸面突度,與其目的無關的是()。
進行金屬烤瓷冠修復,為了美觀,舌側應選用()。
全冠軸面熔模成型后,在齦緣處切去2mm加蠟的主要目的是()。