A.填補基托覆蓋區(qū)內(nèi)所有余留牙舌面的倒凹
B.填補靠近缺隙的基牙鄰面的倒凹
C.填補鄰缺隙牙鄰面的倒凹
D.調(diào)倒凹法
E.均凹法
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A.環(huán)形卡環(huán)
B.回力卡環(huán)
C.聯(lián)合卡環(huán)
D.間隙卡環(huán)
E.雙臂卡環(huán)
A.環(huán)形卡環(huán)
B.回力卡環(huán)
C.聯(lián)合卡環(huán)
D.間隙卡環(huán)
E.雙臂卡環(huán)
A.0.5~1.0mm
B.1.0~1.5mm
C.1.2~2.0mm
D.1.5~2.0mm
E.0.1~0.2mm
A.0.5~1.0mm
B.1.0~1.5mm
C.1.2~2.0mm
D.1.5~2.0mm
E.0.1~0.2mm
A.0.5~1.0mm
B.1.0~1.5mm
C.1.2~2.0mm
D.1.5~2.0mm
E.0.1~0.2mm
最新試題
自潔作用好但審美性、發(fā)音、舌感略差的橋體是()。
關(guān)于可摘局部義齒雕刻上頜第一前磨牙頰面形態(tài)的敘述,錯誤的是()。
貴金屬基底冠的的厚度應(yīng)為()。
以下造成鑄件表面粗糙的原因不包括()。
某技師進行頸部瓷的堆塑,正確的方法為()。
全冠軸面熔模制作時,下頜磨牙頰舌側(cè)最突點在()。
制作底冠蠟型的要點中,錯誤的是()。
在不透明層出現(xiàn)氣泡,正確的處理方法是()。
機器調(diào)拌石膏時,在真空狀態(tài)下的攪拌時間應(yīng)為()。
全冠熔模要求建立正常的軸面突度,與其目的無關(guān)的是()。