單項(xiàng)選擇題記存研究模型的修整，基底部分的高約為解剖部分的（）

A.1／3～1／2
B.1／4～1／2
C.2／3～3／4
D.1／5～1／3
E.1／2～3／4


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1.單項(xiàng)選擇題模型灌注后適宜的脫模時(shí)間為（）

A.1～2小時(shí)
B.2～4小時(shí)
C.6～8小時(shí)
D.12小時(shí)
E.24小時(shí)

2.單項(xiàng)選擇題模型底座厚薄適宜，一般腭頂和口底，的最薄處應(yīng)保持（）

A.3～5mm
B.1～2mm
C.5～10mm
D.10～20mm
E.30mm

3.單項(xiàng)選擇題遮色瓷厚度應(yīng)掌握在（）

A.1～2mm
B.1～0.2mm
C.2～0.3mm
D.2～3mm
E.越薄越好

4.單項(xiàng)選擇題磨除貴金屬基底的金屬與瓷結(jié)合面氧化物，常用（）

A.碳化硅
B.鎢鋼鉆
C.橡皮輪
D.金鋼砂針
E.金鋼石鉆針

5.單項(xiàng)選擇題應(yīng)用回切法制作PFM金屬基底蠟型時(shí)，回切厚度下列說法正確的是（）

A.切緣2.0～2.5mm，唇側(cè)1.5mm，舌側(cè)1.0mm
B.切緣1.5～2.0mm，唇側(cè)1.0mm，舌側(cè)0.5～1.0mm
C.切緣2.0～2.5mm，唇側(cè)1.0mm，舌側(cè)0.5～1.0mm
D.切緣1.5～2.0mm，唇側(cè)1.5mm，舌側(cè)0～1.0mm
E.切緣1.5～2.0mm，唇側(cè)1.0mm，舌側(cè)1.5mm