衍射線在空間的分布（也就是晶面間距）主要反映（）。

TMA測(cè)試材料的尺寸變化，因此只能利用它表征材料尺寸。

下列（）不屬于透射電子顯微鏡的特點(diǎn)。

掃描電子顯微鏡隨放大倍數(shù)的增大，電子束直徑（）。

高分辨成像含兩個(gè)基本過(guò)程，分別對(duì)應(yīng)著數(shù)學(xué)上的傅里葉變換和反傅里葉變換。

在材料后加工方式中，下列（）不屬于修飾的加工方法。

對(duì)于完整晶體，當(dāng)偏離矢量恒定時(shí)，厚度改變，會(huì)產(chǎn)生等厚條紋襯度。

支持膜或復(fù)型薄膜不應(yīng)該顯示出（）。

色譜-質(zhì)譜聯(lián)用技術(shù)既發(fā)揮了色譜法的分離能力，又發(fā)揮了質(zhì)譜法的高鑒別能力。

盛放被測(cè)試樣品的坩堝應(yīng)保證可以與樣品進(jìn)行反應(yīng)。