A.正裝法是將模型和支架包埋在下層型盒內(nèi),人工牙和蠟基托暴露在外,以后人工牙即翻置于上層型盒內(nèi)
B.大多數(shù)可摘局部義齒均采用混裝法,其優(yōu)點(diǎn)為支架和模型包埋在一起,填塞塑料時(shí)支架不易移位;人工后牙和基托分別在上、下型盒內(nèi)填塞塑料,便于修整人工牙的頸緣
C.正裝法是將模型、人工牙和支架全部固定在下層型盒的石膏內(nèi),只將舌腭側(cè)基托和人工牙的舌側(cè)暴露在外,以后只在上層型盒內(nèi)填塞塑料
D.反裝法在準(zhǔn)備模型時(shí),支架應(yīng)該游離出來(lái),在裝下層型盒時(shí),石膏只包埋模型部分,蠟基托、人工牙、支架均不要被石膏包埋大多數(shù)可摘局部義齒均采用這種裝盒方法
E.混裝法是將模型和支架包埋在下層型盒內(nèi),人工牙和蠟基托暴露在外,以后人工牙即翻置于上層型盒內(nèi)。若后牙為雕刻的蠟牙,則在下層型盒內(nèi)填塞人工牙塑料,在上層型盒內(nèi)填塞基托塑料
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A.正中位
B.前伸平衡
C.側(cè)方平衡
D.下頜后退位
E.下頜最大前伸位
A.試壓時(shí)的壓力過(guò)小
B.試壓時(shí)的壓力過(guò)大
C.塑料的填塞量不足
D.塑料的填塞量剛好
E.塑料的填塞時(shí)機(jī)未把握準(zhǔn)確
A.與粘膜緊密貼合
B.離開(kāi)粘膜1.5~2.0mm
C.舌桿的下緣1/3~1/4離開(kāi)粘膜0.2~0.3mm
D.離開(kāi)2.5~3.5mm
E.離開(kāi)1.0mm即可
A.平放
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.向后傾斜
A.在煤火中加熱
B.用煤氣加熱
C.放置在有溫度提示的電烤箱中
D.放置在有溫度提示及能自動(dòng)升溫、恒溫的電烤箱中
E.放置在無(wú)溫度提示的電烤箱中
最新試題
樁核預(yù)備時(shí),唇側(cè)肩臺(tái)應(yīng)為烤瓷冠留出的空間是()
如果患者需作樁冠修復(fù),在根管充填后,選擇樁冠修復(fù)的時(shí)間是()
支持力較差,只能承擔(dān)一小部分力的是()
最可能導(dǎo)致咬合過(guò)高的原因是()
不宜選擇的修復(fù)形式有()
首選的修復(fù)方法是()
針對(duì)你找出的原因,正確的處理是()
其治療應(yīng)是()
最合適該患者修復(fù)的類型是()
處理不當(dāng),咳嗽或吹氣時(shí),總易脫落的是()