A.與牙槽嵴黏膜接觸
B.離開(kāi)牙槽嵴0.5~1mm
C.離開(kāi)牙槽嵴1~2mm
D.位于牙齒鄰面外形突點(diǎn)處
E.位于牙齒靠近牙合緣處
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A.嵌體蠟
B.鑄道蠟
C.粘蠟
D.基托蠟
E.印模蠟
A.桿卡固位裝置
B.球帽固位裝置
C.磁性固位體
D.套筒冠
E.卡環(huán)類固位體
A.基牙舌傾,頰側(cè)無(wú)倒凹者
B.基牙近中傾斜,頰側(cè)遠(yuǎn)中無(wú)倒凹者
C.基牙遠(yuǎn)中傾斜,頰側(cè)近中無(wú)倒凹者
D.口底過(guò)淺者
E.游離端缺失,基牙頰側(cè)存在組織倒凹
A.抗氧化
B.接觸問(wèn)題
C.固定位置
D.充分預(yù)熱
E.火焰引導(dǎo)
A.優(yōu)良的機(jī)械性能
B.合金與瓷能牢固結(jié)合并耐久
C.金屬的熱膨脹系數(shù)略大于瓷粉
D.合金的熔點(diǎn)比瓷的熔點(diǎn)溫度高
E.生成有色的氧化膜
最新試題
右側(cè)后牙全部缺失,左側(cè)余留牙舌側(cè)倒凹大,觀測(cè)模型時(shí)應(yīng)()。
上頜后堤溝的寬度在腭中縫后緣處寬約()。
單純前牙缺失,腭側(cè)基托應(yīng)考慮()。
卡環(huán)臂同時(shí)與兩個(gè)基牙軸面角相接觸的是()。
在孤立的向近中頰(舌)傾斜的最后磨牙上最好設(shè)計(jì)()
基托在以下哪個(gè)區(qū)域應(yīng)充分延伸?()。
上、下后牙頰舌向位置的排列應(yīng)主要參照()
基托不能伸展過(guò)多的區(qū)域是()
基托在以下哪個(gè)區(qū)域不能伸展過(guò)多?()。
當(dāng)口底淺、舌系帶附麗高時(shí)可設(shè)計(jì)的鑄造大連接體形式是()。