A.56%
B.34%
C.80%
D.20%
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某種理想氣體的總分子數(shù)為N,分子速率分布函數(shù)為f(v),則速率在v1→v2區(qū)間內(nèi)的分子數(shù)是:()
A.A
B.B
C.C
D.D
已知摩爾的理想氣體,它的分子自由度為i,k為玻茲曼常量,R為摩爾氣體常量,當(dāng)該氣體從狀態(tài)a(p1,V1,T1)到狀態(tài)b(p2,V2,T2)的變化過程中,其內(nèi)能變化為:()
A.A
B.B
C.C
D.D
A.單位體積內(nèi)的分子數(shù)不同
B.單位體積內(nèi)的氣體的質(zhì)量相同
C.單位體積內(nèi)的氣體分子的總平均平動(dòng)動(dòng)能相同
D.單位體積內(nèi)的氣體的內(nèi)能相同
A.分子平均平動(dòng)動(dòng)能相同,氫氣的內(nèi)能大于氧氣的內(nèi)能
B.分子平均平動(dòng)動(dòng)能相同,氧氣的內(nèi)能大于氫氣的內(nèi)能
C.內(nèi)能相同,氫氣的分子平均平動(dòng)動(dòng)能大于氧氣的分子平均平動(dòng)動(dòng)能
D.內(nèi)能相同,氧氣的分子平均平動(dòng)動(dòng)能大于氫氣的分子平均平動(dòng)動(dòng)能
A.-89J
B.89J
C.329J
D.0
最新試題
在雙縫干涉實(shí)驗(yàn)中,若用透明的云母片遮住上面的一條縫,則干涉圖樣如何變化?()
在雙縫干涉實(shí)驗(yàn)中,兩縫間距離為d,雙縫與屏幕之間的距離為()
ABCD為一塊方解石的一個(gè)截面,AB為垂直于紙面的晶體平面與紙面的交線。光軸方向在紙面內(nèi)且與AB成一銳角θ,如圖所示。一束平行的單色自然光垂直于AB端面入射。在方解石內(nèi)折射光分解為o光和e光,關(guān)于o光和e光的關(guān)系,下列敘述正確的是?()
波長為λ的單色平行光垂直入射到一狹縫上,若第一級暗紋的位置對應(yīng)的衍射角為θ=±π/6,則縫寬的大小為:()
在邁克耳遜干涉儀的反射鏡M2平移距離為0.3220mm時(shí),測得某單色光的干涉條紋移過1024條,則該單色光的波長為:()
用劈尖干涉法可檢測工件表面缺陷,當(dāng)波長為λ的單色平行光垂直入射時(shí),若觀察到的干涉條紋如圖所示,每一條紋彎曲部分的頂點(diǎn)恰好與其左邊條紋的直線部分的連線相切,則工件表面與條紋彎曲處對應(yīng)的部分應(yīng):()
波長為λ的X射線,投射到晶體常數(shù)為d的晶體上,取k=0,2,3,…,出現(xiàn)X射線衍射加強(qiáng)的衍射角θ(衍射的X射線與晶面的夾角)滿足的公式為:()
在雙縫裝置實(shí)驗(yàn)中,對于給定的入射單色光,當(dāng)雙縫間距增大時(shí),則屏幕上干涉條紋的變化情況是:()
三個(gè)偏振片P1、P2與P3堆疊在一起,P1與P3的偏振化方向相互垂直,P2與P1的偏振化方向間的夾角為30°。強(qiáng)度為I0的自然光垂直入射于偏振片P1,并依次透過偏振片P1、P2與P3,則通過三個(gè)偏振片后的光強(qiáng)為:()
兩塊平玻璃構(gòu)成空氣劈尖,左邊為棱邊,用單色平行光垂直入射。若上面的平玻璃慢慢地向上平移,則干涉條紋如何變化?()