A.景深長(zhǎng),立體感強(qiáng)
B.利用二次電子和背散射電子成像
C.可觀察塊狀樣品
D.可觀察組織細(xì)胞內(nèi)部結(jié)構(gòu)
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A.鑲樣
B.磨光
C.拋光
D.腐蝕
A.球面像差
B.色像差
C.像域彎曲
D.色散
A.不同物點(diǎn)的同級(jí)衍射波在后焦面的干涉,形成衍射譜
B.同一物點(diǎn)的各級(jí)衍射波在像面的干涉,形成物像
C.物像由透射光和衍射光互相干涉而形成
D.參與成像的衍射斑點(diǎn)越多,物像與物體的相似性越好
A.狹縫中間每一點(diǎn)可以看成一個(gè)點(diǎn)光源,發(fā)射子波
B.子波之間相互干涉,在屏幕上形成衍射花樣
C.整個(gè)狹縫內(nèi)發(fā)出的光波在中間點(diǎn)的波程差半波長(zhǎng),形成中央亮斑
D.在第一級(jí)衍射極大值處,狹縫上下邊緣發(fā)出的光波波程差為1½波長(zhǎng)
A.光是電磁波,具有波動(dòng)性質(zhì)
B.遇到尺寸與光波波長(zhǎng)相比或更小的障礙物時(shí),光線將沿直線傳播
C.障礙物線度越小,衍射現(xiàn)象越明顯
D.遇到尺寸與光波波長(zhǎng)相比或更小的障礙物時(shí),光線將偏離直線傳播
最新試題
下列哪種因素不是影響紅外光譜譜峰位置的影響因素()
表面與界面成分分析的手段有()
對(duì)埃利斑來(lái)說(shuō),光強(qiáng)度的()集中在中央亮斑,其余由內(nèi)向外遞減。
在光電子能譜中,影響化學(xué)位移的因素有()
俄歇過(guò)程和熒光過(guò)程是兩個(gè)競(jìng)爭(zhēng)的過(guò)程。
影響X射線連續(xù)譜總強(qiáng)度的因素包括()。
某紅外譜圖在1650-2000cm-1沒有吸收峰,則可推斷樣品()
對(duì)聚苯乙烯表面的氧化狀態(tài)進(jìn)行分析,可以采取下面哪些分析手段?()
在光電子能譜圖中,出現(xiàn)在主光電子峰高動(dòng)能端的伴峰可能是()
材料分析的基本原理是指測(cè)量信號(hào)與材料成分、結(jié)構(gòu)等的特征關(guān)系。