在大比例尺航攝影像上，（）不能表明有明顯投影差的存在。

利用航空攝影測(cè)量方法進(jìn)行DEM制作時(shí)，（）不影響DEM質(zhì)量。

利用單像后方交會(huì)求解6個(gè)影像外方位元素需要列出6條方程，至少需要（）個(gè)地面控制點(diǎn)。

商業(yè)衛(wèi)星成像參數(shù)難以統(tǒng)一和獲得，故可采?。ǎ﹣?lái)成像。

采用RFM方程成像模型進(jìn)行遙感衛(wèi)星影像定向是因?yàn)椋ǎ?/p>

下列航測(cè)法成圖的工序中，不屬于內(nèi)業(yè)的是（）

1：2000基礎(chǔ)比例尺數(shù)字正射影像圖上，每個(gè)柵格的尺寸與其對(duì)應(yīng)實(shí)地距離之比為（）

要獲取單張像片的外方位元素，可利用一定數(shù)量地面控制點(diǎn)，采用（）方法進(jìn)行。

以下情況中不會(huì)引起投影差的是（）

要把圖像邊緣、鋸齒等過(guò)濾掉使圖像平滑，應(yīng)采用（）方法。