A.Cu-Sn-Al
B.Al-Sn-Cu
C.Cu-Al-Sn
D.Sn-Cu-Al
E.Al-Cu-Sn
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A.可應(yīng)用鐳療計(jì)量學(xué)體系
B.均為鐳的替代用品
C.半價(jià)層值隨著能量降低顯著減少
D.在5cm范圍內(nèi),劑量分布幾倍遵守平方反比規(guī)律
E.劑量率常數(shù)隨著能量和組織結(jié)構(gòu)變化
A.指型電離室
B.半導(dǎo)體探測(cè)器
C.中子探測(cè)器
D.閃爍計(jì)數(shù)器
E.正比計(jì)數(shù)器
A.射線束能量高
B.射線束劑量率高
C.放射源尺寸大
D.曝光時(shí)間長(zhǎng)
E.照射距離長(zhǎng)
A.也稱為Kerma
B.從間接電離輻射轉(zhuǎn)移到直接電離輻射的平均數(shù)量
C.不考慮能量轉(zhuǎn)移后的情況
D.沉積在單位質(zhì)量中的能量
E.適用于非直接電離輻射的一個(gè)非隨機(jī)量
A.95%
B.90%
C.85%
D.80%
E.75%
最新試題
源皮距越小,百分深度劑量越大。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
對(duì)加速器射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。