單項(xiàng)選擇題成分和價(jià)鍵分析手段包括（）

A.WDS、能譜儀（EDS）和XRD
B.WDS、EDS和XPS
C.TEM、WDS和XPS
D.XRD、FTIR和Raman


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1.單項(xiàng)選擇題產(chǎn)生俄歇電子深度范圍為表層以下（）

A.1000nm左右
B.2nm左右
C.100nm左右
D.20nm左右

2.單項(xiàng)選擇題下列哪種因素不是影響紅外光譜譜峰位置的影響因素（）

A.誘導(dǎo)效應(yīng)
B.共軛效應(yīng)
C.分子含量
D.氫鍵效應(yīng)

3.單項(xiàng)選擇題紅外光譜中官能團(tuán)區(qū)為（）

A.3600～1330
B.1330～400
C.3600～3000
D.2000～1600

4.多項(xiàng)選擇題光電子譜峰由哪幾個(gè)參數(shù)來(lái)標(biāo)記（）

A.元素符號(hào)
B.主量子數(shù)
C.角量子數(shù)
D.自旋-軌道耦合量子數(shù)

7.多項(xiàng)選擇題俄歇電子的能量主要與以下哪些因素有關(guān)（）

A.初始空位能級(jí)
B.躍遷電子能級(jí)
C.激發(fā)源能量
D.填充電子能級(jí)

9.多項(xiàng)選擇題表面與界面成分分析的手段有（）

A.XPS
B.XRF
C.AES
D.EDS

10.多項(xiàng)選擇題光電子的動(dòng)能受哪些因素影響（）

A.電子的結(jié)合能
B.激發(fā)源的波長(zhǎng)
C.逸出功
D.電子的平均自由程