下列有關(guān)分析天平的維護(hù)保養(yǎng)的內(nèi)容錯誤的是（）

氧化劑的氧化能力可以通過標(biāo)準(zhǔn)電極電位數(shù)值進(jìn)行粗略的排隊。

金屬單質(zhì)和非金屬最低價態(tài)的化合物一般都是典型的還原劑。

在利用溶劑蒸發(fā)計算析出的結(jié)晶時，析出的結(jié)晶帶水，而造成溶劑總量的變化，在計算過程中應(yīng)特別注意。

用離子電子法配平反應(yīng)式，可借用標(biāo)準(zhǔn)電極電位中的半反應(yīng)式，先寫出得失電子情況，然后再進(jìn)行配平。

電爐的爐槽任何時候都應(yīng)保持清潔，嚴(yán)防液體等濺落其上而導(dǎo)致（）

由于絕緣材料受污染引起酸度計輸入阻抗降低時，可用乙醇清洗插口和開關(guān)，然后吹干或烘干。

關(guān)閉防水閥門，水浴箱注入清水至適當(dāng)深度，水位不能低于電熱管，這是對水浴箱保養(yǎng)的基本要求。

分析天平使用時要注意過冷的樣品不稱，過熱的樣品不稱，過載的樣品不稱。

典型的配合物，一般應(yīng)是由“中心離子是金屬離子，同時含有配體”所組成的一類化合物。