高分辨成像含兩個(gè)基本過(guò)程，分別對(duì)應(yīng)著數(shù)學(xué)上的傅里葉變換和反傅里葉變換。

下列（）不屬于透射電子顯微鏡的特點(diǎn)。

對(duì)于完整晶體，當(dāng)偏離矢量恒定時(shí)，厚度改變，會(huì)產(chǎn)生等厚條紋襯度。

DMA測(cè)試常見(jiàn)的兩種掃描測(cè)試方式為（）。

在材料后加工方式中，下列（）不屬于修飾的加工方法。

對(duì)于劇烈放熱效應(yīng)的特殊樣品，例如爆炸物等，應(yīng)加大熱分析設(shè)備的加熱速率。

盛放被測(cè)試樣品的坩堝應(yīng)保證可以與樣品進(jìn)行反應(yīng)。

不存在位錯(cuò)、第二相粒子等缺陷的晶體，稱(chēng)為理想晶體或者是完整晶體。

在三個(gè)假設(shè)的前提下，運(yùn)動(dòng)學(xué)理論在處理衍射強(qiáng)度時(shí)，采用了（）兩個(gè)基本近似。

透射式高能電子衍射只適用于對(duì)薄層樣品的分析的原因在于與X射線相比，電子穿透能力差。