A.確定工藝方案,進(jìn)行工藝計(jì)算,提出主流程工藝流程圖(PFD)
B.提出必需的輔助系統(tǒng)和公用系統(tǒng)方案,并進(jìn)行初步的計(jì)算:提出初步的公用工程流程圖(UFD)
C.提出污染物排放及治理措施
D.負(fù)責(zé)裝置內(nèi)裝置正常安全運(yùn)行的安全系統(tǒng)設(shè)計(jì)
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A.7
B.14
C.28
D.56
A.管道及儀表流程圖(PID)
B.確定管道壓力等級(jí)、編制管道數(shù)據(jù)表
C.提出設(shè)備設(shè)計(jì)溫度
D.劃分裝置危險(xiǎn)區(qū)域
A.努塞爾特準(zhǔn)數(shù)Nu
B.普蘭特準(zhǔn)數(shù)Pr
C.雷諾準(zhǔn)數(shù)Re
D.格拉斯霍夫準(zhǔn)數(shù)Gr
A.無(wú)形資產(chǎn)的出資不得超過(guò)企業(yè)注冊(cè)資金的200%
B.無(wú)形資產(chǎn)的出資不得超過(guò)企業(yè)流動(dòng)資金的20%
C.無(wú)形資產(chǎn)的出資不得超過(guò)工程項(xiàng)目總投資的20%
D.國(guó)家對(duì)采用高新技術(shù)成果的出資比例,有特別規(guī)定的除外
A.0.5
B.∞
C.0
D.δ(0)
最新試題
標(biāo)注剖切位置時(shí),采用()短劃來(lái)表示。
點(diǎn)A、B為W面上的重影點(diǎn),且點(diǎn)A在點(diǎn)B之右,其在W面上可寫(xiě)作()。
根據(jù)化工設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),常會(huì)采用()等表達(dá)方法來(lái)補(bǔ)充基本視圖表達(dá)的不足。
化工設(shè)備上的接管和附件通常采用()表達(dá)。
直線AB為一般位置直線,則()。
T形接頭和搭接接頭的焊縫均屬()。
半剖視圖適合于()機(jī)件的表達(dá)。
截平面截切圓柱,該圓柱軸線與水平面垂直,截平面與圓柱軸線傾斜且?jiàn)A角為()時(shí),其截交線的投影為圓。
相貫線的投影為非圓曲線時(shí),其特殊點(diǎn)可以是()。
側(cè)平面的投影特性是()。