A.步進(jìn)源駐留位相對較少
B.劑量節(jié)制點(diǎn)數(shù)目較多
C.多層面插值照射
D.駐留位間距大于1.0cm
E.駐留位間距較小
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A.源軸距
B.源皮距
C.射野中心軸
D.源瘤距
E.皮下
A.1cm
B.1.5cm
C.2.5cm
D.0.5cm
E.2cm
A.臨床靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
B.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
C.治療區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
D.計(jì)劃靶區(qū)內(nèi)所接受的最小劑量
E.腫瘤區(qū)內(nèi)所接受的最大劑量
A.減少電離室桿效應(yīng)的影響
B.減少復(fù)合效應(yīng)的影響
C.減少漏電流
D.控制和減少電離室極化效應(yīng)
E.增加電離室的收集效率
A.主要使用多弧非共面聚焦照射技術(shù)
B.是一種特殊的全身外照射治療手段
C.可以是單次大劑量照射,也可以是分次照射
D.立體定位偏差應(yīng)小于±1mm,劑量偏差小于±5%
E.可以使用X射線,也可以使用γ射線、質(zhì)子束
最新試題
電離室型劑量儀在每次測量前必需對氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
關(guān)于組織補(bǔ)償?shù)拿枋觯e(cuò)誤的是()。
實(shí)際患者治療時(shí),無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。