A.方案設(shè)計(jì)時(shí)選擇的方法
B.方案設(shè)計(jì)中的實(shí)驗(yàn)點(diǎn),是包含線上的軸點(diǎn)還是重心點(diǎn)
C.自變量的個(gè)數(shù)
D.自變量的階數(shù)
E.各自變量取值的上下限
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A.數(shù)據(jù)管理
B.數(shù)據(jù)分析
C.規(guī)劃求解
D.應(yīng)用開發(fā)
A.單因素
B.雙因素
C.多因素
D.混合水平
A.查表的F臨界值的0.00113
B.與顯著性水平為0.00113的F臨界值相等
C.該F檢驗(yàn)的強(qiáng)度保證率為0.00113
D.該F檢驗(yàn)的保證率達(dá)到99.887%
A.偏回歸系數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化
B.偏回歸系數(shù)的F檢驗(yàn)
C.偏回歸系數(shù)的t檢驗(yàn)
A.偏回歸系數(shù)t檢驗(yàn)
B.相關(guān)性R檢驗(yàn)
C.F檢驗(yàn)
D.誤差貢獻(xiàn)率計(jì)算
最新試題
與電子探針相比,離子探針的分析深度更深。
下列()是玻璃生產(chǎn)最重要的環(huán)節(jié)。
電子探針的主要作用是用來(lái)進(jìn)行()分析。
下列()不屬于透射電子顯微鏡的特點(diǎn)。
DMA測(cè)試常見的兩種掃描測(cè)試方式為()。
微觀形貌分析主要借助各種顯微技術(shù)來(lái)認(rèn)識(shí)材料的微觀結(jié)構(gòu)。
在材料后加工方式中,下列()不屬于修飾的加工方法。
高分辨成像含兩個(gè)基本過(guò)程,分別對(duì)應(yīng)著數(shù)學(xué)上的傅里葉變換和反傅里葉變換。
盛放被測(cè)試樣品的坩堝應(yīng)保證可以與樣品進(jìn)行反應(yīng)。
透射式高能電子衍射只適用于對(duì)薄層樣品的分析的原因在于與X射線相比,電子穿透能力差。