相鄰元素或基團(tuán)的電負(fù)性越強(qiáng)，俄歇電子的化學(xué)位移越大。

俄歇過程和熒光過程是兩個(gè)競爭的過程。

材料分析的基本原理是指測量信號與材料成分、結(jié)構(gòu)等的特征關(guān)系。

影響X射線連續(xù)譜總強(qiáng)度的因素包括（）。

對埃利斑來說，光強(qiáng)度的（）集中在中央亮斑，其余由內(nèi)向外遞減。

分子的振動或轉(zhuǎn)動能夠吸收輻射光子能量，相應(yīng)的光譜成為吸收光譜。

光電子譜峰由哪幾個(gè)參數(shù)來標(biāo)記（）

碳元素的主光電子峰是（）

產(chǎn)生俄歇電子深度范圍為表層以下（）

俄歇電子的化學(xué)位移較光電子更敏感。