在均勻形核過程中，當(dāng)過冷度過小時，形核率N主要受（）控制，隨著過冷度增加，臨界晶核半徑減??；當(dāng)過冷度繼續(xù)增大，盡管臨界晶核半徑也在減小，但由于原子在較低溫度下擴(kuò)散變得困難，此時形核率N主要受（）控制。

單晶硅中摻雜硼可以形成P型半導(dǎo)體，根據(jù)單晶成分和晶體特征分類，P型半導(dǎo)體屬于哪一類？（）

水霧化法的主要缺點(diǎn)有（）。

均勻形核發(fā)生所需要的過冷度大概為其熔點(diǎn)的（）倍。

下面（）最適用于低壓鑄造的澆注系統(tǒng)。

對于真空吸鑄，下面哪種說法是正確的？（）

與立式鑄造法相比，水平鑄造法所具有的優(yōu)勢不包括（）。

純金屬結(jié)晶時，晶核呈平面狀長大的條件是（）。

以下哪項不是單晶提拉法的優(yōu)點(diǎn)？（）

以下哪點(diǎn)不屬于快速凝固技術(shù)材料部件與性能的典型特征？（）