下面（）最適用于低壓鑄造的澆注系統(tǒng)。

在均勻形核過程中，當(dāng)過冷度過小時(shí)，形核率N主要受（）控制，隨著過冷度增加，臨界晶核半徑減小；當(dāng)過冷度繼續(xù)增大，盡管臨界晶核半徑也在減小，但由于原子在較低溫度下擴(kuò)散變得困難，此時(shí)形核率N主要受（）控制。

在枝晶生長(zhǎng)過程中，二次枝晶臂由于它們的曲率不同，會(huì)造成各枝晶臂附近液相內(nèi)溶質(zhì)濃度的差別，枝晶曲率半徑愈小，附近液相溶質(zhì)濃度（）。

晶核長(zhǎng)大的機(jī)制不包括（）。

以下哪項(xiàng)不是單晶提拉法的優(yōu)點(diǎn)？（）

以下哪點(diǎn)不屬于獲得高冷速的基本技術(shù)原則？（）

（）不是熱型連續(xù)鑄造法的基本凝固方式。

在普通模鑄造法中二次冷卻指的是（）。

與立式鑄造法相比，水平鑄造法所具有的優(yōu)勢(shì)不包括（）。

以下不屬于成分過冷理論局限的是（）。