俄歇電子的化學(xué)位移較光電子更敏感。

改變激發(fā)源的能量，俄歇電子譜峰的位置不動。

對于化學(xué)價態(tài)相同的原子，俄歇化學(xué)位移的差別主要和原子間的電負(fù)性差有關(guān)。

俄歇過程和熒光過程是兩個競爭的過程。

X射線光譜能給出材料的哪些信息（）

影響俄歇電子強度的因素有（）

光電子譜峰由哪幾個參數(shù)來標(biāo)記（）

材料分析的基本原理是指測量信號與材料成分、結(jié)構(gòu)等的特征關(guān)系。

由布拉格方程變形而引入了干涉指數(shù)，對其描述正確的是（）。

釔鋁石榴石激光器可在（）nm的近紅外區(qū)使用。