表面態(tài)中性能級位于費(fèi)米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

對于同時存在一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)的均勻摻雜的非簡并半導(dǎo)體，在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時，半導(dǎo)體具有（）半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性。

多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重?fù)焦鑿U料提純法4）西門子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法

載流子的擴(kuò)散運(yùn)動產(chǎn)生擴(kuò)散電流，漂移運(yùn)動產(chǎn)生（）電流。

可用作硅片的研磨材料是（）

只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是（）。 

熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）

原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速（）

下列哪個不是單晶常用的晶向（）

與半導(dǎo)體相比較，絕緣體的價帶電子激發(fā)到導(dǎo)帶所需的能量（）