A.位錯(cuò)不一定是直線
B.位錯(cuò)是已滑移區(qū)和未滑移區(qū)的邊界
C.位錯(cuò)可以中斷于晶體內(nèi)部
D.位錯(cuò)不能中斷于晶體內(nèi)部
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A.間隙和空位質(zhì)點(diǎn)同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
B.正離子空位和負(fù)離子空位同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
C.正離子間隙和負(fù)離子間隙同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
D.正離子間隙和位錯(cuò)同時(shí)成對(duì)出現(xiàn)
A.正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的縮小
B.正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
C.正離子空位和負(fù)離子間隙是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
D.正離子間隙和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
A.外力
B.熱應(yīng)力
C.化學(xué)力
D.結(jié)構(gòu)應(yīng)力
A.雜質(zhì)質(zhì)點(diǎn)大小
B.晶體(基質(zhì))結(jié)構(gòu)
C.電價(jià)因素
D.A+B+C
A.線性增加
B.呈指數(shù)規(guī)律增加
C.無(wú)規(guī)律
D.線性減少
最新試題
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