A.<1mm
B.<2mm
C.<3mm
D.<4mm
E.<5mm
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A.是通過觸診或影像學(xué)檢查確定的腫瘤細(xì)胞集中的體積
B.可以是原發(fā)病灶
C.可以使轉(zhuǎn)移的淋巴結(jié)
D.包含潛在的受侵犯組織
E.是與照射技術(shù)有關(guān)的區(qū)域
A.隨著電子束能量的增加,其表面劑量降低、高劑量坪區(qū)變窄、劑量跌落梯度增加,并且X線污染減小
B.隨著電子束能量的增加,其表面劑量降低、高劑量坪區(qū)變寬、劑量跌落梯度減少,并且X線污染增加
C.隨著電子束能量的增加,其表面劑量增加、高劑量坪區(qū)變寬、劑量跌落梯度減少,并且X線污染增加
D.隨著電子束能量的增加,其表面劑量增加、高劑量坪區(qū)變窄、劑量跌落梯度增加,并且X線污染增加
E.隨著電子束能量的增加,其表面劑量增加、高劑量坪區(qū)變寬、劑量跌落梯度減少,并且X線污染減小
A.0.2mm
B.0.5mm
C.1.0mm
D.1.5mm
E.2.0mm
A.以DNA雙鍵斷裂造成細(xì)胞死亡為理論依據(jù)
B.兩個(gè)不同電離粒子不能協(xié)同作用來殺死細(xì)胞
C.建立在上皮和皮下組織放射耐受性的基礎(chǔ)上,主要適用于5~30次分割照射范圍
D.α/β比值受所選擇的生物效應(yīng)水平的影響,因而不能反映早期反應(yīng)組織和晚期反應(yīng)組織以及腫瘤對劑量反應(yīng)的差別
E.是靶理論模型的一種
A、指形電離室的靈敏體積通常為0.1~1.5cm3
B、指形電離室由靜電極、測量極和保護(hù)極組成
C、指形電離室一般不用于測量表面劑量
D、指形電離室通常用來校準(zhǔn)中高能X線以及4MeV以上的電子線
E、指形電離室?guī)в袠?biāo)準(zhǔn)厚度的平衡帽,其目的是為了增加靈敏體積內(nèi)的電子數(shù)目
最新試題
源皮距越小,百分深度劑量越大。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
對加速器射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。