集成電路工藝原理判斷題每日一練(2020.06.02)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)

1.判斷題離子注入是唯一能夠精確控制摻雜的手段。

2.判斷題離子注入中靜電掃描的主要缺點(diǎn)是離子束不能垂直轟擊硅片，會(huì)導(dǎo)致光刻材料的陰影效應(yīng)，阻礙離子束的注入。

3.判斷題高密度等離子體刻蝕機(jī)是為亞0.25微米圖形尺寸而開(kāi)發(fā)的最重要的干法刻蝕系統(tǒng)。

4.判斷題沒(méi)有CMP，就不可能生產(chǎn)甚大規(guī)模集成電路芯片。

5.判斷題刻蝕速率通常正比于刻蝕劑的濃度。