半導(dǎo)體具有的負(fù)的溫度系數(shù)的發(fā)現(xiàn)年份是（）年。

絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。

第一塊集成電路發(fā)明于（）年。

晶體管的全部應(yīng)用模式中，共有（）種放大倍數(shù)。

（）是最早實(shí)現(xiàn)提純和完美晶體生長的半導(dǎo)體材料。

p型襯底材料的MOS管，其半導(dǎo)體的摻雜濃度增大，閾值電壓隨之增大。

實(shí)際的MOS管，絕緣層相當(dāng)于一個(gè)電阻無限大的絕緣體，其中沒有任何雜質(zhì)和缺陷。

1947年，（）等人制造了第一個(gè)晶體管。

MOS管的伏安特性曲線含義是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。

雙極型晶體管內(nèi)部有（）個(gè)極，（）個(gè)區(qū)，（）個(gè)PN結(jié)。