說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。

MOS器件存在哪些二階效應(yīng)？

什么是MOS器件的體效應(yīng)？

從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。

為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力，可在版圖設(shè)計(jì)上采取哪些措施？

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

編寫DRC版圖驗(yàn)證文件的主要依據(jù)是什么？

版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？

版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么？