問答題確定在1200℃時(shí),由SiCl4源生長的外延層的生長速率。反應(yīng)室的氣相質(zhì)量轉(zhuǎn)移系數(shù)是hG=5cm/s,表面反應(yīng)速率常數(shù)為KS=107exp(-1.9eV/kT)cm/s,CG=5*1016cm-3。如果反應(yīng)溫度降低2℃,生長速率將變化多少?

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