問答題確定在1200℃時(shí),由SiCl4源生長的外延層的生長速率。反應(yīng)室的氣相質(zhì)量轉(zhuǎn)移系數(shù)是hG=5cm/s,表面反應(yīng)速率常數(shù)為KS=107exp(-1.9eV/kT)cm/s,CG=5*1016cm-3。如果反應(yīng)溫度降低2℃,生長速率將變化多少?
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最新試題
絕緣層材料質(zhì)量影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
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題型:判斷題
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題型:判斷題
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MOS管可以分為4類型,其中p溝增強(qiáng)型MOS的載流子主要是電子。
題型:判斷題
N溝增強(qiáng)型MOS管襯底材料是N型摻雜半導(dǎo)體。
題型:判斷題
氧化鋁(Al2O3)的介電常數(shù)一般低于氮化硅(Si3N4)的介電常數(shù)。
題型:判斷題