問答題有兩個(gè)pn結(jié),其中一個(gè)結(jié)的雜質(zhì)濃度ND=5×1015cm-3,NA=5×1017cm-3另一個(gè)結(jié)的雜質(zhì)濃度,ND=5×1017cm-3,NA=5×1019cm-3,在室溫全電離近似下分別求它們的接觸電勢(shì)差,并解釋為什么雜質(zhì)濃度不同接觸電勢(shì)差的大小也不同。
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第一塊集成電路發(fā)明于()年。
題型:填空題
理想的MOS管其柵極電壓只會(huì)落在絕緣層和半導(dǎo)體襯底表面層上,柵極分壓占比小于50%。
題型:判斷題
MOS管的伏安特性曲線含義是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。
題型:判斷題
半導(dǎo)體襯底材料與柵極材料之間的逸出功差變化范圍較小。
題型:判斷題
晶體管正常使用過程中,處于正偏的PN結(jié)是()結(jié),處于反偏的PN結(jié)是()結(jié)。
題型:填空題
N型襯底的MOS管的伏安特性曲線可以分為可調(diào)電阻區(qū),飽和區(qū)和擊穿區(qū)。
題型:判斷題
柵極材料和半導(dǎo)體襯底材料的功函數(shù)差會(huì)影響MOS管的閾值電壓。
題型:判斷題
處于飽和工作區(qū)的n溝耗盡型MOS管,漏極將失去對(duì)溝道電流的控制能力。
題型:判斷題
MOS管的轉(zhuǎn)移特性曲線指的是漏源電壓與漏源電流之間的關(guān)系曲線。
題型:判斷題
半導(dǎo)體的主要特征有()()()和()。
題型:填空題